5。4.化学气相淀积系统5。4、1 本条规定了化学气相淀积系统的安装要求,1 目前主流的化学气相淀积技术有常压化学气相淀积。低压化学气相淀积 等离子体增强化学气相淀积、金属氧化物化学气相淀积等、不同的淀积技术对工艺气体的组分要求有所不同，3、由于化学气相淀积系统工艺要使用到SiH4。PH4.SF6，CH4 CF6等易燃，易爆或对人体有毒的危险性气体.为保证设备使用安全和人身安全，安装时应同时安装危险气体泄漏报警装置 本款为强制性条款、设备安装人员必须严格执行 5 为了保证操作时的安全,机壳应良好接地,5 4.2.本条规定了化学气相淀积系统的调试及试运行要求,2。应尽量延长真空泵的抽气时间.以便尽可能地抽除炉体内的残余气体,8.不同的膜种类，如多晶硅。氧化硅。氮化硅等，其片内,片间.批间的均匀性。淀积速率有所不同.