5.4，化学气相淀积系统5 4 1，本条规定了化学气相淀积系统的安装要求.1、目前主流的化学气相淀积技术有常压化学气相淀积、低压化学气相淀积.等离子体增强化学气相淀积 金属氧化物化学气相淀积等 不同的淀积技术对工艺气体的组分要求有所不同,3、由于化学气相淀积系统工艺要使用到SiH4,PH4,SF6.CH4,CF6等易燃。易爆或对人体有毒的危险性气体.为保证设备使用安全和人身安全.安装时应同时安装危险气体泄漏报警装置，本款为强制性条款.设备安装人员必须严格执行,5、为了保证操作时的安全 机壳应良好接地 5，4，2.本条规定了化学气相淀积系统的调试及试运行要求,2.应尽量延长真空泵的抽气时间。以便尽可能地抽除炉体内的残余气体,8.不同的膜种类 如多晶硅,氧化硅。氮化硅等。其片内、片间、批间的均匀性 淀积速率有所不同,