5、4.化学气相淀积系统5、4.1 本条规定了化学气相淀积系统的安装要求。1、目前主流的化学气相淀积技术有常压化学气相淀积.低压化学气相淀积、等离子体增强化学气相淀积 金属氧化物化学气相淀积等 不同的淀积技术对工艺气体的组分要求有所不同。3。由于化学气相淀积系统工艺要使用到SiH4,PH4.SF6。CH4,CF6等易燃,易爆或对人体有毒的危险性气体,为保证设备使用安全和人身安全、安装时应同时安装危险气体泄漏报警装置。本款为强制性条款.设备安装人员必须严格执行 5，为了保证操作时的安全 机壳应良好接地，5，4,2，本条规定了化学气相淀积系统的调试及试运行要求，2.应尽量延长真空泵的抽气时间。以便尽可能地抽除炉体内的残余气体.8,不同的膜种类，如多晶硅.氧化硅、氮化硅等，其片内，片间,批间的均匀性。淀积速率有所不同，