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5 2,磁控溅射镀膜机5,2.1.本条规定了磁控溅射镀膜机的安装要求。1。磁控溅射设备按设备原理可分为直流磁控溅射设备 射频磁控溅射设备和等离子体溅射设备,5,2 2 本条规定了磁控溅射镀膜机的调试及试运行要求、4,磁控溅射设备按溅射靶的结构形状可分为平面靶溅射设备,同轴靶溅射设备.圆锥靶、S型枪,溅射设备.12,用圆形靶和锥形靶溅射时,当基片直径小于或等于100mm时、其膜厚均匀性不应大于,3 当基片直径大于100mm或用矩形靶和同轴靶溅射时 其膜厚均匀性应在设备使用说明书中具体规定,
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