5、8,反应离子刻蚀机5、8，1 反应离子刻蚀机的安装应符合下列规定、1.应通过调节四个地脚高度来调平承片台、2,应根据设备和环境要求 安装一般排风系统或酸碱排风系统，3 设备总电源应配置专用空气开关、接地线应可靠，4,刻蚀电极应独立安装循环冷却水系统，水压应为0 2MPa,0，6MPa、水温应保持在16、28、水阻不应小于3MΩ,5、应安装工艺用气CF4。SF6。C4F和O2等气体管道，若厂房没有配置固定的管道气体。可采用罐装气体接入，6 射频电源功率可分别设置为1000W和500W，并应具有阻抗自动匹配功能,7、应根据气体性质安装气体泄漏报警装置。5 8 2，反应离子刻蚀机的调试及试运行应符合下列规定,1 应准备好已涂覆上相同厚度聚酰亚胺膜层的基片，且应已有均匀的掩模窗口。2.应启动循环冷却水系统并检查循环水箱水位，水位过低时可从水箱上方的注水口注入纯水 并应确保其水位在，MAX。和、MIN 之间，3.应切断进气阀和保护阀、可用设备自带的真空系统对反应室抽真空 测试极限真空度应能达到气压不大于1，0。10、4Pa 用氦质谱检漏仪检测反应室漏气率不应大于1 0,10。6Pa.L，s，4。开机进入主界面时。应打开机械泵和分子泵，待分子泵的速度达到满转后方可进行刻蚀工艺，5。应将基片放到刻蚀腔室承片台上，应关闭腔室并设置好工艺气体流量，射频电源电压。刻蚀时间 进行刻蚀工艺、6。设备应具备光学发射光谱法终点检测系统 7，刻蚀结束后应用膜厚测量仪测试基片的上。下，左。右，中五个点,应记录打开窗口中剩余聚酰亚胺的厚度.片内和片间的刻蚀厚度允许偏差应为，3、