5，8。反应离子刻蚀机5,8 1 反应离子刻蚀机的安装应符合下列规定，1，应通过调节四个地脚高度来调平承片台.2.应根据设备和环境要求、安装一般排风系统或酸碱排风系统。3，设备总电源应配置专用空气开关。接地线应可靠、4,刻蚀电极应独立安装循环冷却水系统.水压应为0、2MPa，0.6MPa。水温应保持在16.28,水阻不应小于3MΩ 5。应安装工艺用气CF4。SF6 C4F和O2等气体管道。若厂房没有配置固定的管道气体.可采用罐装气体接入、6 射频电源功率可分别设置为1000W和500W，并应具有阻抗自动匹配功能 7、应根据气体性质安装气体泄漏报警装置，5，8，2，反应离子刻蚀机的调试及试运行应符合下列规定,1，应准备好已涂覆上相同厚度聚酰亚胺膜层的基片 且应已有均匀的掩模窗口 2，应启动循环冷却水系统并检查循环水箱水位，水位过低时可从水箱上方的注水口注入纯水，并应确保其水位在、MAX.和、MIN 之间 3，应切断进气阀和保护阀、可用设备自带的真空系统对反应室抽真空。测试极限真空度应能达到气压不大于1 0。10、4Pa，用氦质谱检漏仪检测反应室漏气率不应大于1，0 10.6Pa,L,s、4 开机进入主界面时.应打开机械泵和分子泵。待分子泵的速度达到满转后方可进行刻蚀工艺，5.应将基片放到刻蚀腔室承片台上 应关闭腔室并设置好工艺气体流量。射频电源电压.刻蚀时间。进行刻蚀工艺.6 设备应具备光学发射光谱法终点检测系统.7，刻蚀结束后应用膜厚测量仪测试基片的上。下、左，右，中五个点.应记录打开窗口中剩余聚酰亚胺的厚度,片内和片间的刻蚀厚度允许偏差应为。3.