5、8 反应离子刻蚀机5.8，1.反应离子刻蚀机的安装应符合下列规定 1 应通过调节四个地脚高度来调平承片台,2。应根据设备和环境要求,安装一般排风系统或酸碱排风系统,3。设备总电源应配置专用空气开关，接地线应可靠，4，刻蚀电极应独立安装循环冷却水系统 水压应为0,2MPa。0，6MPa 水温应保持在16.28 水阻不应小于3MΩ，5 应安装工艺用气CF4。SF6,C4F和O2等气体管道。若厂房没有配置固定的管道气体，可采用罐装气体接入。6 射频电源功率可分别设置为1000W和500W，并应具有阻抗自动匹配功能 7 应根据气体性质安装气体泄漏报警装置,5。8、2 反应离子刻蚀机的调试及试运行应符合下列规定，1.应准备好已涂覆上相同厚度聚酰亚胺膜层的基片 且应已有均匀的掩模窗口.2、应启动循环冷却水系统并检查循环水箱水位、水位过低时可从水箱上方的注水口注入纯水.并应确保其水位在、MAX,和、MIN，之间.3.应切断进气阀和保护阀.可用设备自带的真空系统对反应室抽真空 测试极限真空度应能达到气压不大于1.0 10.4Pa、用氦质谱检漏仪检测反应室漏气率不应大于1.0、10。6Pa，L、s，4 开机进入主界面时，应打开机械泵和分子泵、待分子泵的速度达到满转后方可进行刻蚀工艺,5，应将基片放到刻蚀腔室承片台上，应关闭腔室并设置好工艺气体流量,射频电源电压、刻蚀时间 进行刻蚀工艺、6、设备应具备光学发射光谱法终点检测系统，7。刻蚀结束后应用膜厚测量仪测试基片的上 下。左 右,中五个点,应记录打开窗口中剩余聚酰亚胺的厚度。片内和片间的刻蚀厚度允许偏差应为、3