5 8.反应离子刻蚀机5。8、1 反应离子刻蚀机的安装应符合下列规定，1 应通过调节四个地脚高度来调平承片台。2 应根据设备和环境要求、安装一般排风系统或酸碱排风系统,3、设备总电源应配置专用空气开关 接地线应可靠，4,刻蚀电极应独立安装循环冷却水系统.水压应为0、2MPa,0,6MPa.水温应保持在16.28、水阻不应小于3MΩ,5、应安装工艺用气CF4.SF6 C4F和O2等气体管道,若厂房没有配置固定的管道气体 可采用罐装气体接入,6。射频电源功率可分别设置为1000W和500W,并应具有阻抗自动匹配功能。7，应根据气体性质安装气体泄漏报警装置,5 8、2.反应离子刻蚀机的调试及试运行应符合下列规定.1、应准备好已涂覆上相同厚度聚酰亚胺膜层的基片.且应已有均匀的掩模窗口,2、应启动循环冷却水系统并检查循环水箱水位，水位过低时可从水箱上方的注水口注入纯水。并应确保其水位在，MAX 和,MIN、之间。3。应切断进气阀和保护阀。可用设备自带的真空系统对反应室抽真空 测试极限真空度应能达到气压不大于1。0.10、4Pa,用氦质谱检漏仪检测反应室漏气率不应大于1.0.10,6Pa L，s 4。开机进入主界面时、应打开机械泵和分子泵.待分子泵的速度达到满转后方可进行刻蚀工艺、5，应将基片放到刻蚀腔室承片台上 应关闭腔室并设置好工艺气体流量，射频电源电压。刻蚀时间,进行刻蚀工艺。6。设备应具备光学发射光谱法终点检测系统，7，刻蚀结束后应用膜厚测量仪测试基片的上、下。左 右。中五个点、应记录打开窗口中剩余聚酰亚胺的厚度 片内和片间的刻蚀厚度允许偏差应为，3、