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- 多晶硅工厂设计规范 GB 51034-2014
- 条文说明
- 1 总 则
- 2 术 语
- 3 基本规定
- 4 厂址选择及厂区规划
- 5 工艺设计
- 6 电气及自动化
- 7 辅助设施
- 7.1 压缩空气站
- 7.2 制 氮 站
- 7.3 制 氢 站
- 7.4 导 热 油
- 7.5 纯水制备
- 7.6 制 冷
- 7.7 蒸 汽
- 8 建筑结构
- 9 给水、排水和消防
- 10 采暖、通风与空气调节
- 11 环境保护、安全和卫生
- 12 节能、余热回收
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7，5 纯水制备7 5.3.本条主要对纯水的水质提出要求.由于纯水主要用于清洗硅料,硅芯和石墨件 为了避免对清洗料二次污染 所以对水质要求比较高.表7、5 3中的指标数据主要依据了美国,电子和半导体工业用超纯水标准指南，ASTM、D5127中E，1级的水质标准 7 5、4、本条第2款规定纯水系统应采用循环方式，主要是为了保证管道内水的流动性，减少死水区 减小管道材料对水质的影响,防止微牛物及细菌的滋生、
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