7 5,纯水制备7,5，1、硅芯.石墨件及硅料清洗应采用纯水、7 5，2.纯水站位置应满足工艺总体布局的要求、并应就近用水设备布置、7,5.3、纯水水质指标不应低于表7，5,3的规定 表7、5，3,纯水水质指标。注.表中第11项、第34项采用电感耦合等离子体质谱 ICP MS，检测 7,5 4、纯水储存和分配应符合下列规定。1,纯水储存罐体和输送管道材料应满足生产工艺的水质要求。宜选择洁净聚氯乙烯管.Clean，PVC 聚偏二氟乙烯管，PVDF 等管材，管道附件与阀门等应采用与管道相同的材质.2，纯水输送管道系统应采用循环方式，设计和安装时，不应出现使水滞留和不易清洁的部位.循环干管的流速宜大于1 5m。s.不循环的支管长度不应大于管径的6倍 3。纯水储罐和输送系统应设置清洗系统，7。5,5 纯水制备,储存和分配应符合现行国家标准、电子工业纯水系统设计规范，GB。50685的有关规定.