7 5.纯水制备7.5。1.硅芯.石墨件及硅料清洗应采用纯水、7。5，2.纯水站位置应满足工艺总体布局的要求,并应就近用水设备布置，7。5.3，纯水水质指标不应低于表7、5、3的规定,表7.5，3，纯水水质指标,注.表中第11项。第34项采用电感耦合等离子体质谱，ICP,MS，检测,7。5 4,纯水储存和分配应符合下列规定,1 纯水储存罐体和输送管道材料应满足生产工艺的水质要求,宜选择洁净聚氯乙烯管,Clean PVC、聚偏二氟乙烯管,PVDF，等管材，管道附件与阀门等应采用与管道相同的材质,2,纯水输送管道系统应采用循环方式。设计和安装时 不应出现使水滞留和不易清洁的部位。循环干管的流速宜大于1，5m、s、不循环的支管长度不应大于管径的6倍 3，纯水储罐和输送系统应设置清洗系统 7,5 5,纯水制备 储存和分配应符合现行国家标准、电子工业纯水系统设计规范,GB，50685的有关规定