7.5。纯水制备7、5,1,硅芯 石墨件及硅料清洗应采用纯水.7，5,2.纯水站位置应满足工艺总体布局的要求 并应就近用水设备布置。7,5。3.纯水水质指标不应低于表7、5 3的规定 表7,5 3.纯水水质指标。注 表中第11项。第34项采用电感耦合等离子体质谱,ICP。MS,检测 7、5，4，纯水储存和分配应符合下列规定.1，纯水储存罐体和输送管道材料应满足生产工艺的水质要求 宜选择洁净聚氯乙烯管.Clean、PVC、聚偏二氟乙烯管.PVDF 等管材.管道附件与阀门等应采用与管道相同的材质.2 纯水输送管道系统应采用循环方式，设计和安装时。不应出现使水滞留和不易清洁的部位,循环干管的流速宜大于1 5m,s.不循环的支管长度不应大于管径的6倍、3、纯水储罐和输送系统应设置清洗系统、7，5、5、纯水制备,储存和分配应符合现行国家标准。电子工业纯水系统设计规范，GB.50685的有关规定