7.5,纯水制备7.5.1，硅芯、石墨件及硅料清洗应采用纯水、7 5.2.纯水站位置应满足工艺总体布局的要求,并应就近用水设备布置.7 5。3。纯水水质指标不应低于表7、5。3的规定。表7，5.3 纯水水质指标,注、表中第11项 第34项采用电感耦合等离子体质谱.ICP。MS.检测，7.5。4、纯水储存和分配应符合下列规定。1、纯水储存罐体和输送管道材料应满足生产工艺的水质要求,宜选择洁净聚氯乙烯管 Clean,PVC,聚偏二氟乙烯管 PVDF,等管材、管道附件与阀门等应采用与管道相同的材质。2。纯水输送管道系统应采用循环方式 设计和安装时。不应出现使水滞留和不易清洁的部位,循环干管的流速宜大于1。5m，s.不循环的支管长度不应大于管径的6倍 3 纯水储罐和输送系统应设置清洗系统.7。5.5、纯水制备 储存和分配应符合现行国家标准，电子工业纯水系统设计规范，GB.50685的有关规定,