7 5 纯水制备7、5，1。硅芯 石墨件及硅料清洗应采用纯水,7 5.2、纯水站位置应满足工艺总体布局的要求.并应就近用水设备布置,7、5。3、纯水水质指标不应低于表7,5,3的规定 表7，5,3,纯水水质指标,注.表中第11项.第34项采用电感耦合等离子体质谱,ICP MS,检测，7 5。4,纯水储存和分配应符合下列规定 1。纯水储存罐体和输送管道材料应满足生产工艺的水质要求,宜选择洁净聚氯乙烯管.Clean。PVC。聚偏二氟乙烯管。PVDF,等管材 管道附件与阀门等应采用与管道相同的材质。2.纯水输送管道系统应采用循环方式 设计和安装时。不应出现使水滞留和不易清洁的部位。循环干管的流速宜大于1,5m,s、不循环的支管长度不应大于管径的6倍.3、纯水储罐和输送系统应设置清洗系统.7。5.5，纯水制备 储存和分配应符合现行国家标准 电子工业纯水系统设计规范，GB,50685的有关规定。