7，5,纯水制备7，5,1.硅芯、石墨件及硅料清洗应采用纯水.7、5 2。纯水站位置应满足工艺总体布局的要求。并应就近用水设备布置,7 5、3。纯水水质指标不应低于表7 5.3的规定.表7，5。3，纯水水质指标，注.表中第11项，第34项采用电感耦合等离子体质谱、ICP，MS。检测。7。5 4，纯水储存和分配应符合下列规定。1.纯水储存罐体和输送管道材料应满足生产工艺的水质要求 宜选择洁净聚氯乙烯管.Clean。PVC.聚偏二氟乙烯管，PVDF、等管材、管道附件与阀门等应采用与管道相同的材质,2、纯水输送管道系统应采用循环方式,设计和安装时,不应出现使水滞留和不易清洁的部位 循环干管的流速宜大于1,5m、s.不循环的支管长度不应大于管径的6倍，3，纯水储罐和输送系统应设置清洗系统，7。5,5,纯水制备 储存和分配应符合现行国家标准,电子工业纯水系统设计规范.GB 50685的有关规定，