7 5.纯水制备7、5。1.硅芯。石墨件及硅料清洗应采用纯水 7.5、2、纯水站位置应满足工艺总体布局的要求 并应就近用水设备布置,7。5，3.纯水水质指标不应低于表7、5，3的规定，表7.5 3,纯水水质指标、注、表中第11项，第34项采用电感耦合等离子体质谱 ICP，MS，检测、7.5 4、纯水储存和分配应符合下列规定、1 纯水储存罐体和输送管道材料应满足生产工艺的水质要求、宜选择洁净聚氯乙烯管 Clean PVC 聚偏二氟乙烯管.PVDF、等管材，管道附件与阀门等应采用与管道相同的材质,2 纯水输送管道系统应采用循环方式.设计和安装时.不应出现使水滞留和不易清洁的部位 循环干管的流速宜大于1，5m s。不循环的支管长度不应大于管径的6倍.3 纯水储罐和输送系统应设置清洗系统,7、5、5。纯水制备。储存和分配应符合现行国家标准,电子工业纯水系统设计规范、GB，50685的有关规定，