7 5、纯水制备7。5、1。硅芯，石墨件及硅料清洗应采用纯水，7.5.2、纯水站位置应满足工艺总体布局的要求 并应就近用水设备布置 7.5，3，纯水水质指标不应低于表7 5、3的规定 表7。5。3,纯水水质指标。注 表中第11项。第34项采用电感耦合等离子体质谱,ICP,MS,检测 7、5.4、纯水储存和分配应符合下列规定 1 纯水储存罐体和输送管道材料应满足生产工艺的水质要求.宜选择洁净聚氯乙烯管，Clean。PVC,聚偏二氟乙烯管.PVDF,等管材、管道附件与阀门等应采用与管道相同的材质。2,纯水输送管道系统应采用循环方式 设计和安装时，不应出现使水滞留和不易清洁的部位、循环干管的流速宜大于1 5m.s 不循环的支管长度不应大于管径的6倍 3、纯水储罐和输送系统应设置清洗系统，7，5 5。纯水制备,储存和分配应符合现行国家标准、电子工业纯水系统设计规范 GB 50685的有关规定.