7，5.纯水制备7，5。1、硅芯，石墨件及硅料清洗应采用纯水.7，5、2。纯水站位置应满足工艺总体布局的要求、并应就近用水设备布置、7,5，3.纯水水质指标不应低于表7,5。3的规定.表7、5 3。纯水水质指标、注。表中第11项,第34项采用电感耦合等离子体质谱。ICP,MS，检测.7,5 4.纯水储存和分配应符合下列规定 1，纯水储存罐体和输送管道材料应满足生产工艺的水质要求。宜选择洁净聚氯乙烯管。Clean、PVC.聚偏二氟乙烯管，PVDF。等管材，管道附件与阀门等应采用与管道相同的材质.2,纯水输送管道系统应采用循环方式，设计和安装时 不应出现使水滞留和不易清洁的部位,循环干管的流速宜大于1 5m s、不循环的支管长度不应大于管径的6倍。3、纯水储罐和输送系统应设置清洗系统 7。5、5 纯水制备,储存和分配应符合现行国家标准、电子工业纯水系统设计规范。GB，50685的有关规定