7，5。纯水制备7.5、1。硅芯，石墨件及硅料清洗应采用纯水、7,5，2，纯水站位置应满足工艺总体布局的要求、并应就近用水设备布置 7，5、3。纯水水质指标不应低于表7，5 3的规定。表7 5，3.纯水水质指标 注、表中第11项.第34项采用电感耦合等离子体质谱，ICP MS。检测,7。5，4,纯水储存和分配应符合下列规定，1 纯水储存罐体和输送管道材料应满足生产工艺的水质要求、宜选择洁净聚氯乙烯管。Clean.PVC、聚偏二氟乙烯管,PVDF 等管材,管道附件与阀门等应采用与管道相同的材质.2 纯水输送管道系统应采用循环方式.设计和安装时,不应出现使水滞留和不易清洁的部位、循环干管的流速宜大于1、5m,s，不循环的支管长度不应大于管径的6倍,3.纯水储罐和输送系统应设置清洗系统，7，5,5,纯水制备、储存和分配应符合现行国家标准.电子工业纯水系统设计规范.GB,50685的有关规定，