7，5、纯水制备7 5,1，硅芯.石墨件及硅料清洗应采用纯水.7,5、2,纯水站位置应满足工艺总体布局的要求.并应就近用水设备布置、7、5 3、纯水水质指标不应低于表7。5、3的规定.表7 5.3。纯水水质指标。注、表中第11项.第34项采用电感耦合等离子体质谱，ICP。MS,检测.7，5.4 纯水储存和分配应符合下列规定 1。纯水储存罐体和输送管道材料应满足生产工艺的水质要求 宜选择洁净聚氯乙烯管.Clean。PVC，聚偏二氟乙烯管 PVDF,等管材，管道附件与阀门等应采用与管道相同的材质。2.纯水输送管道系统应采用循环方式。设计和安装时,不应出现使水滞留和不易清洁的部位.循环干管的流速宜大于1，5m s.不循环的支管长度不应大于管径的6倍 3，纯水储罐和输送系统应设置清洗系统.7 5，5,纯水制备。储存和分配应符合现行国家标准,电子工业纯水系统设计规范 GB，50685的有关规定、