7，5.纯水制备7,5,1。硅芯.石墨件及硅料清洗应采用纯水。7,5、2，纯水站位置应满足工艺总体布局的要求、并应就近用水设备布置。7。5.3、纯水水质指标不应低于表7。5，3的规定，表7、5、3。纯水水质指标、注 表中第11项,第34项采用电感耦合等离子体质谱。ICP。MS.检测.7 5。4。纯水储存和分配应符合下列规定 1、纯水储存罐体和输送管道材料应满足生产工艺的水质要求。宜选择洁净聚氯乙烯管，Clean。PVC。聚偏二氟乙烯管,PVDF.等管材，管道附件与阀门等应采用与管道相同的材质、2，纯水输送管道系统应采用循环方式。设计和安装时。不应出现使水滞留和不易清洁的部位,循环干管的流速宜大于1,5m.s、不循环的支管长度不应大于管径的6倍，3,纯水储罐和输送系统应设置清洗系统.7,5，5 纯水制备 储存和分配应符合现行国家标准.电子工业纯水系统设计规范.GB 50685的有关规定