7 5 纯水制备7.5,1.硅芯。石墨件及硅料清洗应采用纯水。7.5.2、纯水站位置应满足工艺总体布局的要求，并应就近用水设备布置、7。5，3,纯水水质指标不应低于表7，5,3的规定，表7.5 3,纯水水质指标,注,表中第11项.第34项采用电感耦合等离子体质谱、ICP，MS。检测、7、5 4、纯水储存和分配应符合下列规定，1 纯水储存罐体和输送管道材料应满足生产工艺的水质要求,宜选择洁净聚氯乙烯管 Clean PVC，聚偏二氟乙烯管,PVDF。等管材、管道附件与阀门等应采用与管道相同的材质.2 纯水输送管道系统应采用循环方式、设计和安装时.不应出现使水滞留和不易清洁的部位，循环干管的流速宜大于1、5m.s 不循环的支管长度不应大于管径的6倍 3.纯水储罐和输送系统应设置清洗系统 7，5。5，纯水制备 储存和分配应符合现行国家标准 电子工业纯水系统设计规范、GB,50685的有关规定，