10，3 处理设备10，3。1 要采用碳化钨进行喷嘴硬化处理等措施是防止喷嘴堵塞,为确保废气以尽可能高的温度进入除尘器。蒸发冷却塔需保温,10 3。2.袋式除尘器的气布比与废气的性质有关系 在纯氧燃烧的熔炉系统中,要以1，8m、min为正常设计值，10.3，3，本条是关于选择性非催化还原法处理设备的要求、采用选择性非催化还原Selective。Non,Catalytic.Reduction、以下简写为SNCR技术，不使用催化剂，在850、1000,的温度范围内，将含氨基的还原剂，如氨水、尿素溶液等,喷入炉内.将烟气中的氮氧化物还原脱除、生成氮气和水，在合适的温度区域、且氨水和尿素作为还原剂时 其反应方程式为 1 NH3为还原剂 4NH3，4NO.O2。4N2。6H2O。NO2具有氧化性 和NH3反应生成H2O和N26NO2,8NH3,7N2 12H2O 2 尿素为还原剂、2NO.2CO。NH2,2，O2，3N2.2CO2 2H2O10.3。4。本条是关于高效选择性非催化还原法处理设备的要求、1.高效选择性非催化还原法.HESNCR，为SNCR的改进型，第二代的SNCR系统。有比SNCR更高的脱硝处理效果 HESNCR工艺通过氨气增温增压混合器 首先常温预先雾化氨水溶液.然后高温气化并增压.气态氨喷入待处理烟气的脱硝反应区内，使氨与烟气充分混合并接触反应，在炉膛800，1100、这一狭窄的温度范围内、在无催化剂作用下。氨基还原剂选择性地还原烟气中的氮氧化物.基本上不与烟气中的氧反应.主要反应与SNCR相同。NH3.NOx,N2，H2O.HESNCR工艺的氮氧化物脱除效率主要取决于适当的反应温度 氨和氮氧化物的化学计量比.混合程度。反应时间等、研究表明HESNCR工艺的温度控制至关重要,最佳反应温度是950，若温度过低，氨的反应不完全,容易造成氨泄漏。而温度过高.氨则容易被氧化为氮氧化物,抵消了氨的脱除效率、温度过高或过低都会导致还原剂的损失和氮氧化物脱除率下降、通常设计合理的HESNCR工艺能达到60、70 的脱除效率.2、反应室可以是熔炉,锅炉或单独设计的反应室,HESNCR试剂的储存和处理系统与SCR和CSCR系统类似，此系统还原剂氨。一般采用氨水溶液，10,3 5，本条是关于逆流式活性炭选择性催化还原法处理设备的要求.1,逆流式活性炭选择性催化还原法 Coke，Selective，Catalytic、Reaction,CSCR。是一种干式低温活性焦炭脱硝工艺,100.200、CSCR的脱硫脱氮过程在一个反应器内进行,一步处理即能够达到处理效果.活性焦炭是这一处理过程的关键和重要的因素 脱硫是利用活性焦炭的吸附特性，脱硝是通过氨。一氧化氮.二氧化氮和活性焦炭发生催化还原反应而去除,主要化学反应方程式如下 6NO，4NH3 5N2,6H2O6NO2，8NH3、7N2 12H2O，2，CSCR脱硝系统有以下几个重要组成成分,1,鼓风机，2.气体淬火系统.若需要，3。吸收塔，4，解吸塔，5、催化剂注入系统 传输系统及装卸系统 6,氨储存系统，蒸发系统及注入系统、7。氮气供应系统,8，控制系统。9。电气系统.10。3.6。本条是关于氨供应系统的要求,1.液氨蒸发器一般为螺旋管式，管内为液氨.管外为温水浴缓冲槽维持适当温度及压力.通常以蒸汽直接喷入水中加热至40。再以温水将液氨汽化，并加热至常温,1。氨气流量受蒸发槽本身水浴温度控制调节,当水的温度高过55。时.则切断热源来源 并在控制室DCS上报警显示。2、如使用蒸汽作为热源。提供的蒸汽压力一般为0，8MPa,1、3MPa、温度280。375,以此作为蒸发器热源，3，蒸发罐上要装有压力控制阀将氨气压力控制在0。2MPa。当出口压力达到0.38MPa时.切断液氨进料。4。蒸发罐安装安全阀.能防止设备压力异常过高 2、液氨经过蒸发器蒸发为氨气后进入气氨缓冲槽，其作用是对氨气进行一个缓冲作用，保证氨气有一个稳定的压力、氨气缓冲槽的结构相对简单 主要包括氨气的进出口、安全阀以及排污阀等、