10，2、系统设计。处理流程及方法10。2 1,两个废气出口一个为起炉烟气出口 另一个为生产烟气出口。起炉烟气为各窑炉烘炉或起炉空气燃烧时排出的烟气 生产烟气为生产时因物料熔融而产生的烟气。起炉烟气一般不含有害物质 而生产烟气含有有害物质 所以一般分别设置排气系统,10、2 2,规定本条目的在于使窑炉生产设备内部和烟气系统均保持稳定的工作压力。窑炉生产设备废气出口通常为微负压，该压力对生产效率有很大的影响。10.2。4,由于各电子玻璃的生产厂的配方不同,产生的烟气成分都不同，因而所采用的处理方法也有不同,采用喷淋设备。半干式吸收塔处理酸性废气为一般采用的方法.若有氮氧化物的产生,其处理方法按第10.2.6条的说明、10，2,5，废气的降温在电子玻璃行业中有两个方法、即室外冷空气降温和喷淋降温.采用何种方法取决于采用的生产原料是否有吸湿的情况 如硼 砷等，脱硝效率与湿度成反比.过高的湿度容易引起处理设备及风管中产生结晶、所以需确保降温后废气的相对湿度不超过10 10，2。6 本条规定了废气脱硝的方式.1,常温脱硝一般采用化学洗涤 或臭氧。AOP,氧化还原工艺等方法，但因产生废水.产生水溶化合物的再处理问题，及废气氮氧化物浓度高等情况、在电子玻璃烟气中很少采用、2，当采用CSCR方案时.脱硝设备包括 氨水外部升温气化设备,氨水与废气混合设备.废气升温设备.由60 80、提升到100，120，脱硝反应塔.含触媒、氨逃逸监控、氮氧化物监控,触媒回收设备等。4。当采用SNCR或HESNCR方案时。脱硝设备包括,含氨水外部升温气化设备、氨水与废气混合设备 除灰设备，脱硝反应设备.氨逃逸监控、氮氧化物监控仪表等.常用的脱硝方式见表10.10。2、7 本条规定是考虑因硼粉尘与氨结晶会毒化催化剂及产生催化剂氧化问题，10。2。8 本条规定氨的逃逸率不超过8mg。m3依据现行行业标准.火电厂烟气脱硝工程技术规范，选择性非催化还原法 HJ,563、脱硝系统设计时要采取控制氨气泄漏的措施 防止二次污染 氨的逃逸率不超过8mg m3,同时厂界氨气的浓度符合现行国家标准,恶臭污染物排放标准、GB。14554的规定、