7.结 构7、1,一般规定7.1、1,发光二极管工厂光刻机等精密设备基础应满足微振动控制的要求。7.1 2、产生较大振动的设备基础宜远离光刻机等精密设备区域、当无法远离时.对产生较大振动的设备应采取有效的隔振措施、7.1。3,生产厂房工艺生产区的结构不宜设置伸缩缝,

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