4，5、半导体材料制备4 5.1，硅，锗材料制备废气治理应符合下列要求 1 氯化氢合成和三氯氢硅合成 提纯过程产生的含氯化氢的废气 应设置淋洗塔净化,2,原料储罐进 出料过程产生的含氯硅烷的废气.应设置淋洗塔净化。3,三氯氢硅还原尾气宜采用干法回收技术回收氢气、氯化氢。氯硅烷、并应返回相应的工艺系统，4 硅芯,硅片.锗锭腐蚀过程产生的含氟化氢,氮氧化物的废气,应设置碱液淋洗塔净化.5，硅粉仓 锗精矿仓产生的粉尘应设置高效布袋除尘系统回收、6,氧化锗制备过程产生的尾气中含有氯化氢 氯气.应设置碱液淋洗装置净化 7。单晶硅,单晶锗酸洗过程产生的含氟化氢、氮氧化物的废气.应设置碱液淋洗装置净化.4,5.2。合成砷化镓工序必须设置事故排放的含砷废气处理设施.