4，5。半导体材料制备4。5,1、硅.锗材料制备废气治理应符合下列要求，1,氯化氢合成和三氯氢硅合成 提纯过程产生的含氯化氢的废气，应设置淋洗塔净化 2,原料储罐进 出料过程产生的含氯硅烷的废气 应设置淋洗塔净化,3.三氯氢硅还原尾气宜采用干法回收技术回收氢气 氯化氢。氯硅烷.并应返回相应的工艺系统。4.硅芯.硅片,锗锭腐蚀过程产生的含氟化氢.氮氧化物的废气.应设置碱液淋洗塔净化 5、硅粉仓 锗精矿仓产生的粉尘应设置高效布袋除尘系统回收 6.氧化锗制备过程产生的尾气中含有氯化氢、氯气.应设置碱液淋洗装置净化 7、单晶硅 单晶锗酸洗过程产生的含氟化氢 氮氧化物的废气、应设置碱液淋洗装置净化,4。5 2.合成砷化镓工序必须设置事故排放的含砷废气处理设施、