4 5 半导体材料制备4、5。1。硅,锗材料制备废气治理应符合下列要求.1.氯化氢合成和三氯氢硅合成 提纯过程产生的含氯化氢的废气,应设置淋洗塔净化 2、原料储罐进、出料过程产生的含氯硅烷的废气、应设置淋洗塔净化,3.三氯氢硅还原尾气宜采用干法回收技术回收氢气,氯化氢 氯硅烷。并应返回相应的工艺系统,4 硅芯,硅片 锗锭腐蚀过程产生的含氟化氢 氮氧化物的废气 应设置碱液淋洗塔净化，5，硅粉仓，锗精矿仓产生的粉尘应设置高效布袋除尘系统回收、6、氧化锗制备过程产生的尾气中含有氯化氢.氯气 应设置碱液淋洗装置净化,7 单晶硅 单晶锗酸洗过程产生的含氟化氢.氮氧化物的废气.应设置碱液淋洗装置净化,4、5，2,合成砷化镓工序必须设置事故排放的含砷废气处理设施