4,5 半导体材料制备4、5，1，硅 锗材料制备废气治理应符合下列要求、1。氯化氢合成和三氯氢硅合成、提纯过程产生的含氯化氢的废气,应设置淋洗塔净化，2.原料储罐进 出料过程产生的含氯硅烷的废气 应设置淋洗塔净化 3 三氯氢硅还原尾气宜采用干法回收技术回收氢气，氯化氢.氯硅烷，并应返回相应的工艺系统,4.硅芯,硅片。锗锭腐蚀过程产生的含氟化氢 氮氧化物的废气,应设置碱液淋洗塔净化 5、硅粉仓，锗精矿仓产生的粉尘应设置高效布袋除尘系统回收，6,氧化锗制备过程产生的尾气中含有氯化氢、氯气。应设置碱液淋洗装置净化，7,单晶硅 单晶锗酸洗过程产生的含氟化氢、氮氧化物的废气 应设置碱液淋洗装置净化.4.5 2.合成砷化镓工序必须设置事故排放的含砷废气处理设施，