5、5.半导体材料制备5,5，1.硅,锗材料制备的生产废水处理应符合下列要求，1。制备多晶硅的生产废水应中和处理后回用或达标排放,2,硅片加工过程产生的浆料应回收利用,3，制备氯化锗产生的蒸馏残液 水解母液以及废气淋洗液.应中和处理 4，单晶硅、单晶锗酸洗产生的酸性废气淋洗液应中和处理,5、产品检测产生的含铬废液必须单独收集或回用.不能返回工艺或作其他利用的含铬废液中的总铬及六价铬 必须达标后再送全厂污水处理站进一步处理.5，5.2。制备砷化镓产生的含砷废水，液，必须单独收集、且应首先回收砷，不能回收时应将三价砷转变为五价砷再进一步进行脱砷净化处理。