5.5,半导体材料制备5，5.1,硅.锗材料制备的生产废水处理应符合下列要求、1，制备多晶硅的生产废水应中和处理后回用或达标排放、2.硅片加工过程产生的浆料应回收利用，3 制备氯化锗产生的蒸馏残液.水解母液以及废气淋洗液 应中和处理，4,单晶硅 单晶锗酸洗产生的酸性废气淋洗液应中和处理,5,产品检测产生的含铬废液必须单独收集或回用、不能返回工艺或作其他利用的含铬废液中的总铬及六价铬、必须达标后再送全厂污水处理站进一步处理、5.5.2 制备砷化镓产生的含砷废水。液.必须单独收集，且应首先回收砷、不能回收时应将三价砷转变为五价砷再进一步进行脱砷净化处理.