3.3。废水处理3.3,1，本条规定了确定废水处理流程的原则，并对常见废水提出了可采用的处理方法.1，酸碱废水采用中和法，通过投加NaOH、H2SO4 HCl等使废水pH值达标,2、含氟废水采用化学沉淀法处理 通过投加钙盐,控制pH值在7.11，并投加PAC.PAM、FeCl3等药剂.经沉淀.使氟达标,使用的钙盐,一般为石灰或氯化钙.一般情况下。投加石灰沉淀效果优于投加氯化钙,投加石灰,一方面提供了除氟需要的钙盐 另一方面又提供了调整pH值需要的氢氧根离子,与投加氯化钙相比,减少了废水调整pH值需要的氢氧化钠.使废水氯化钠的含量大大减少 但投加石灰污泥产量大.增加了污泥处置的工作量 而且石灰的配置和储存条件较差。pH值的控制,通常通过投加NaOH 石灰来实现 投加NaOH时生成的氟化钙絮体较投加石灰细小。不易沉淀.对含氟废水而言.投加FeCl3和PAM比投加PAC和PAM更有利于氯化钙的沉淀,但FeCl3投加量较大时、由于三价铁离子的存在、废水有时容易发红.总之。药剂选择应综合多方面因素确定，3、含砷废水采用化学沉淀法处理 一般采用石灰，氯化钙，FeCl3.调pH值在9 10可取得良好效果 目前、清华大学会同有关单位研制出403专用除砷剂，其最大特点是除砷效率高。污泥量少,可极大减少含砷污泥的处置费用、4，化学沉淀法处理含磷废水。可参考现行国家标准、室外排水设计规范，GB。50014,2006第6 7节的有关要求.5 电子工业有机废水除含有各种清洗剂、显影液,如四甲基氢氧化铵.化学式，C4H13NO。去光阻剂NMP,如N,甲基，2，吡咯烷酮。化学式 C5H9NO 去光阻剂DMSO.二甲基亚砜，化学式 CH3.2SO、去光阻剂NBA,乙酸正丁酯 化学式.C6H12O2,等外 还含有氟 磷等无机物 从有机废水中所含化学物质的分子式我们可以看出,电子工业有机废水处理 事实上是去除无机物和氮，硫等、因此宜采用化学沉淀法首先去除氟、部分磷等无机物.然后采用生化法去除氮.硫和碳水化合物等.本规范仅列出了部分废水的一般处理方法、由于电子工程废水种类很多.可根据具体废水水质,水量 排放标准和废水回用状况等 采用不同于规范推荐的方法 3。3、2 本条是关于废水处理工艺流程，竖向设计利用地形高差的规定,在废水处理竖向设计时 充分利用地势高差。可以有效减少废水动力提升、节约能源 3 3、3 本条是关于废水处理站设置超越管和放空管的规定.废水处理站在合理位置设置超越管,可使废水在紧急条件下越过某些处理构筑物而进入后续构筑物,但是超越管的布置应保证对出水水质影响小,并能迅速恢复正常工作、构筑物在维修时 需要设排空设施。为了保护环境.排空水应回流处理，不应直接排到排水口，构筑物底部设置排水管或设置临时排水泵抽水是常用的两种排空手段、3。3、4 本条是关于废水处理站机电设备噪声和振动防治的规定.废水处理设备的设备噪声和振动控制。首先要选择噪声低和振动轻的设备。其次将噪声高和振动剧烈的设备集中布置在远离人群集中的房间中 再根据实际情况采用隔声。吸声等治理方法,使其达到现行国家标准.工业企业厂界环境噪声排放标准、GB、12348的要求。3.3、5、本条是关于废水处理过程中臭气防治的规定 电子工程废水处理时的臭气、主要来源于生物法处理废水的生化池。污泥浓缩,污泥脱水.污泥储存等部位 应根据臭气产生的部位 设置臭气收集设施 处理装置和排气筒.臭气处理主要有以下几种方法.活性炭吸附法、热氧化法、除臭溶液除臭法。氧离子基团除臭法.化学洗涤法和生物过滤法等。活性炭吸附法主要适合小气量臭气的处理.通常不作为第一级主要除臭装置 而是用作后续的精处理装置,热氧化法主要适合重度污染的大型设施的高流量、难处理的臭气.除臭溶液除臭法主要是利用人们可以接受的气味较强的气体气味掩盖和中和难闻的臭气气体气味的方法。该方法很难完全改变臭气气体成分。对人畜 设备和环境等仍可能具有一定的损害.氧离子基团除臭法适用于处理轻度污染的既含有臭气又含有挥发性有机化合物的废气 需要注意的是.反应产物硫酸具有腐蚀性、化学洗涤法主要是利用化学制剂和臭气气体中的臭气经过化学反应生成没有臭味或臭味较低的化学产物来消除臭气的方法。该方法改变了臭气的成分 降低了臭气对人畜。设备和环境等的损害程度、该方法在电子工程废水处理中应用较多，生物过滤法除臭原理是,收集到的废气在适宜的条件下通过长满微生物的固体载体,填料。气味物质先被填料吸收 然后被填料上的微生物氧化分解,完成废气的除臭过程，固体载体上生长的微生物承担了物质转换的任务。因为微生物生长需要足够的有机养分。所以物体载体应具有很高的有机成分 还要创造适宜的温度 pH值 氧气含量、温度和营养成分的良好条件来保持微生物活性.该方法不适合处理特高浓度臭气和含有有毒成分的废气,