、3、纯水制备工艺3，1、一般规定3,1，1、纯水制备系统的规模和供水水质直接影响纯水系统的投资大小 应根据生产需要合理确定.关于电子工业纯水水质指标.不同电子产品。不同生产工艺和不同厂家都会提出不同的要求，目前国际比较通用的标准是美国材料试验学会，ASTM、的标准ASTM D5127.07,见表1、该标准主要是针对不同线宽的集成电路生产.有较大参考价值、国内的标准只有，电子级水，GB.T、11446，1 1997。水质要求较低，并不直接针对电子产品.只适用于水质要求较低的电子产品，3。1、2，确定纯水制备流程和选择处理设备是设计的关键、影响因素也是多方面的.不应该只强调某一方面 而应该各种因素综合考虑，选择最佳的方案。3,1，3。条文中强调简捷和有效非常重要，因为每个处理单元对于水质处理来说除了正面作用外.会有或多或少的负面作用,例如离子交换树脂具有良好的除盐作用的同时会有溶解有机物和碎颗粒产生 3,1、5，本条强调全部可利用水源，包括自来水以外的再生水 甚至废水处理站处理后的水、体现面对水资源匮乏 设计中不能只盯着自来水，而忽略其他水源。掌握可靠的水源水质资料是做好纯水处理系统设计的先决条件 附录B列出了水质分析项目，当系统中采用反渗透时应检测水中的锶。钡等项目、当采用再生水时应根据水质特点增加一些针对性的理化检测项目。3。1。6，海水倒灌是沿海地区。例如上海地区。在咸潮期的普遍现象，由于水质的变化对纯水处理特别是前级的预处理和初级处理冲击很大，因此应切实掌握因海水倒灌引起的水质变化,采取有效的对策、见表2。3,1,7、电子工业纯水制备系统的三个阶段的划分是多年经验的科学总结、电子工业在电子管的阶段对水质要求低。基本的手段为离子交换，基本没有预处理和抛光处理,随着纯水水质的提高 在脱盐系统后出现了精处理.抛光 阶段，随着反渗透在系统中的出现。其运行关键是保证进入反渗透的水质、形成了预处理系统 条文中明确了各个处理阶段的基本要求、见图1、3，1，8,纯水制备系统中保证每个处理单元进水的水质非常重要 是长期稳定运行的关键。特别是电子工业纯水系统中常用的反渗透和电除盐.其运转的成败大都在于是否能保证其进水水质要求、无数事例证明 反渗透的关键是进水的污染指数 电脱盐的关键是进水的硬度,当然表3、2,1中所列的进水水质指标都是重要的。电渗析在电子工业纯水系统中已很少使用、其进水指标仅供参考，