6,工艺设计6 0 1、电磁波暗室的工艺区划应满足暗室体型尺寸，暗室与功能性房间之间的相对位置要求,6 0、2，暗室应与测控间,设备间.试验间等相邻。6、0,3 暗室开门位置不宜在主反射区.6、0。4 暗室布局宜自建筑的底层开始.6 0。5、暗室体型宜选择内壁对电磁波反射路径既少又弱，试验操作安全可靠,结构简单的体型.6.0。6，暗室内有两套或以上功能测试系统时 其体型和尺寸除应满足各测试系统的测量技术要求外。还应满足系统间相互耦合的隔离要求 6 0.7，长方体暗室尺寸应符合下列规定.1、内壁长度L应按下式计算.L L1，L2、L3,L4 6,0 7 1，式中 L1、测量距离，m。按表6,0，7计算、L2 暗室内测量系统设备和受试设备在测试中 沿暗室测量纵轴方向所占据的最大尺寸之和。m，L3、为满足运输、维护及电磁辐射性能要求，沿测量纵轴方向增加的长度、L4，暗室两端墙壁吸波材料沿测量纵轴方向的高度和.m 表6.0。7,L1计算、2，内壁宽度W应按下式计算、W。W1。W2.W3 6 0。7.2.式中。W。内壁宽度、m，不宜小于0,87L1、W1。暗室内测量系统设备和受试设备在测试中.沿暗室宽度方向所占据的最大尺寸,m.W2.满足运输。维护和辐射特性需要，沿暗室宽度方向的空间尺寸 m。W3 暗室两侧墙壁吸波材料高度的总和,m、3，内壁高度H应按下式计算。并应满足辐射特性要求，H.H1。H2,H3，6.0 7 3、式中 H,内壁高度.m、对于1 1，2.1、2，2。3、2类暗室.不宜小于0,87L1,H1.测量系统设备或受试设备的最大高度,m,H2，设备上部安装空间尺寸，m,H3、暗室顶部吸波材料高度、m,6 0。8。锥体暗室尺寸设计应符合下列规定.1 暗室静区尺寸不应小于待测天线尺寸.2 暗室长方体部分宽度和高度应相等，不应小于暗室静区尺寸的3倍、3，暗室长方体部分长度不应小于暗室宽度和主墙吸波材料高度的和、4。锥顶角可选取20.22,5.根据本条第1款.第4款设计的锥形暗室，测量距离L1应满足本规范表6.0,7的远场条件、6，6GHz及以上频段的锥形暗室.应符合自由空间电波传播幅度与相位的均匀性要求.6，0，9、正多边柱体暗室尺寸应符合下列规定,1，内壁内切圆半径R应按下式计算。R.L1、R2,R3,R4 6.0.9.1、式中.L1。测量距离，按本规范表6 0 7计算。对于1。1 2 1,3.2类远场测量暗室 当天线口面内电磁波相位偏差要求小于或等于λ 8时，K值取2.对于2,2类暗室、K值可小于2，R2.测量系统设备与受试设备沿半径方向的长度之和 R3。满足运输。维护和辐射特性需要.在半径方向的空间尺寸，R4。吸波材料的总高度。2.高度应按本规范式.6。0、7，3,计算 6.0,10 雷达截面紧缩场微波暗室。3.1类暗室.尺寸，应与要求的静区尺寸,测量系统布局.操作维护空间相协调匹配 6 0 11。除本规范表4.0，1中1.2,1。3。2 2、3.1，3、2 4、1类暗室测量系统在高度方向布局另有要求外、其他暗室内部测量系统应对称布局、6.0、12,暗室静区范围尺寸应大于受试设备试验状态中所覆盖的区域、