6 工艺设计6，0、1。电磁波暗室的工艺区划应满足暗室体型尺寸。暗室与功能性房间之间的相对位置要求。6.0、2、暗室应与测控间，设备间,试验间等相邻 6,0 3。暗室开门位置不宜在主反射区.6。0 4.暗室布局宜自建筑的底层开始,6,0、5.暗室体型宜选择内壁对电磁波反射路径既少又弱、试验操作安全可靠。结构简单的体型、6.0、6 暗室内有两套或以上功能测试系统时.其体型和尺寸除应满足各测试系统的测量技术要求外 还应满足系统间相互耦合的隔离要求，6，0,7.长方体暗室尺寸应符合下列规定，1.内壁长度L应按下式计算,L L1。L2。L3，L4.6,0.7 1。式中。L1 测量距离。m，按表6.0，7计算.L2。暗室内测量系统设备和受试设备在测试中。沿暗室测量纵轴方向所占据的最大尺寸之和、m L3,为满足运输.维护及电磁辐射性能要求.沿测量纵轴方向增加的长度 L4 暗室两端墙壁吸波材料沿测量纵轴方向的高度和,m，表6.0.7,L1计算。2 内壁宽度W应按下式计算 W,W1,W2。W3 6.0。7.2。式中。W.内壁宽度。m、不宜小于0.87L1。W1，暗室内测量系统设备和受试设备在测试中,沿暗室宽度方向所占据的最大尺寸、m、W2，满足运输.维护和辐射特性需要、沿暗室宽度方向的空间尺寸,m，W3.暗室两侧墙壁吸波材料高度的总和。m.3，内壁高度H应按下式计算、并应满足辐射特性要求 H。H1。H2 H3 6。0。7.3,式中、H.内壁高度,m。对于1.1、2 1，2,2。3、2类暗室 不宜小于0.87L1 H1。测量系统设备或受试设备的最大高度 m，H2。设备上部安装空间尺寸,m、H3、暗室顶部吸波材料高度.m 6、0 8。锥体暗室尺寸设计应符合下列规定 1。暗室静区尺寸不应小于待测天线尺寸。2 暗室长方体部分宽度和高度应相等。不应小于暗室静区尺寸的3倍,3 暗室长方体部分长度不应小于暗室宽度和主墙吸波材料高度的和 4 锥顶角可选取20。22，5，根据本条第1款,第4款设计的锥形暗室。测量距离L1应满足本规范表6，0。7的远场条件,6，6GHz及以上频段的锥形暗室、应符合自由空间电波传播幅度与相位的均匀性要求、6。0，9,正多边柱体暗室尺寸应符合下列规定,1.内壁内切圆半径R应按下式计算 R,L1、R2，R3,R4、6。0。9，1、式中、L1,测量距离。按本规范表6,0、7计算,对于1、1 2 1，3,2类远场测量暗室。当天线口面内电磁波相位偏差要求小于或等于λ、8时，K值取2.对于2，2类暗室.K值可小于2,R2。测量系统设备与受试设备沿半径方向的长度之和,R3，满足运输。维护和辐射特性需要。在半径方向的空间尺寸，R4。吸波材料的总高度 2,高度应按本规范式.6 0.7,3,计算、6，0.10。雷达截面紧缩场微波暗室 3，1类暗室,尺寸、应与要求的静区尺寸，测量系统布局.操作维护空间相协调匹配,6、0，11、除本规范表4。0，1中1 2.1,3。2,2。3。1.3 2 4、1类暗室测量系统在高度方向布局另有要求外、其他暗室内部测量系统应对称布局 6。0 12，暗室静区范围尺寸应大于受试设备试验状态中所覆盖的区域。