6，工艺设计6、0.1。电磁波暗室的工艺区划应满足暗室体型尺寸、暗室与功能性房间之间的相对位置要求 6、0，2 暗室应与测控间 设备间、试验间等相邻，6.0 3 暗室开门位置不宜在主反射区。6。0，4，暗室布局宜自建筑的底层开始，6、0，5.暗室体型宜选择内壁对电磁波反射路径既少又弱,试验操作安全可靠 结构简单的体型。6。0,6。暗室内有两套或以上功能测试系统时.其体型和尺寸除应满足各测试系统的测量技术要求外、还应满足系统间相互耦合的隔离要求.6.0 7，长方体暗室尺寸应符合下列规定.1.内壁长度L应按下式计算。L L1,L2、L3 L4.6.0 7、1,式中 L1。测量距离.m，按表6.0.7计算,L2。暗室内测量系统设备和受试设备在测试中 沿暗室测量纵轴方向所占据的最大尺寸之和。m，L3。为满足运输.维护及电磁辐射性能要求.沿测量纵轴方向增加的长度.L4。暗室两端墙壁吸波材料沿测量纵轴方向的高度和。m。表6。0 7、L1计算，2。内壁宽度W应按下式计算、W W1.W2，W3、6、0 7,2,式中,W,内壁宽度，m 不宜小于0.87L1。W1。暗室内测量系统设备和受试设备在测试中,沿暗室宽度方向所占据的最大尺寸，m、W2.满足运输，维护和辐射特性需要,沿暗室宽度方向的空间尺寸 m，W3.暗室两侧墙壁吸波材料高度的总和,m、3。内壁高度H应按下式计算，并应满足辐射特性要求、H H1，H2，H3 6、0，7,3。式中，H，内壁高度,m,对于1，1。2，1。2、2.3,2类暗室 不宜小于0,87L1，H1 测量系统设备或受试设备的最大高度 m H2、设备上部安装空间尺寸 m,H3、暗室顶部吸波材料高度、m,6、0、8，锥体暗室尺寸设计应符合下列规定。1.暗室静区尺寸不应小于待测天线尺寸 2 暗室长方体部分宽度和高度应相等、不应小于暗室静区尺寸的3倍、3,暗室长方体部分长度不应小于暗室宽度和主墙吸波材料高度的和 4,锥顶角可选取20。22.5。根据本条第1款、第4款设计的锥形暗室、测量距离L1应满足本规范表6 0。7的远场条件。6,6GHz及以上频段的锥形暗室,应符合自由空间电波传播幅度与相位的均匀性要求，6.0，9.正多边柱体暗室尺寸应符合下列规定.1,内壁内切圆半径R应按下式计算,R.L1 R2，R3.R4，6。0，9 1 式中 L1。测量距离 按本规范表6 0。7计算 对于1。1。2.1，3.2类远场测量暗室,当天线口面内电磁波相位偏差要求小于或等于λ,8时。K值取2，对于2，2类暗室 K值可小于2.R2，测量系统设备与受试设备沿半径方向的长度之和、R3、满足运输,维护和辐射特性需要，在半径方向的空间尺寸 R4、吸波材料的总高度。2。高度应按本规范式.6，0 7。3 计算、6、0,10,雷达截面紧缩场微波暗室，3。1类暗室 尺寸，应与要求的静区尺寸，测量系统布局。操作维护空间相协调匹配 6,0.11 除本规范表4，0、1中1 2。1，3、2 2。3。1、3、2,4,1类暗室测量系统在高度方向布局另有要求外 其他暗室内部测量系统应对称布局.6.0 12、暗室静区范围尺寸应大于受试设备试验状态中所覆盖的区域,