6，工艺设计6、0、1 电磁波暗室的工艺区划应满足暗室体型尺寸,暗室与功能性房间之间的相对位置要求、6。0。2 暗室应与测控间.设备间，试验间等相邻.6。0.3 暗室开门位置不宜在主反射区 6 0。4,暗室布局宜自建筑的底层开始，6,0。5.暗室体型宜选择内壁对电磁波反射路径既少又弱。试验操作安全可靠，结构简单的体型,6 0.6。暗室内有两套或以上功能测试系统时 其体型和尺寸除应满足各测试系统的测量技术要求外、还应满足系统间相互耦合的隔离要求.6 0 7。长方体暗室尺寸应符合下列规定、1.内壁长度L应按下式计算.L,L1 L2、L3。L4，6,0.7。1.式中、L1。测量距离,m 按表6.0、7计算。L2.暗室内测量系统设备和受试设备在测试中,沿暗室测量纵轴方向所占据的最大尺寸之和。m，L3，为满足运输,维护及电磁辐射性能要求、沿测量纵轴方向增加的长度、L4,暗室两端墙壁吸波材料沿测量纵轴方向的高度和 m 表6 0、7。L1计算。2。内壁宽度W应按下式计算。W，W1。W2。W3.6、0 7，2、式中,W.内壁宽度。m。不宜小于0,87L1,W1,暗室内测量系统设备和受试设备在测试中 沿暗室宽度方向所占据的最大尺寸、m。W2。满足运输，维护和辐射特性需要,沿暗室宽度方向的空间尺寸。m W3,暗室两侧墙壁吸波材料高度的总和,m。3，内壁高度H应按下式计算,并应满足辐射特性要求、H.H1。H2，H3,6 0.7，3，式中.H 内壁高度,m、对于1、1。2.1.2，2 3 2类暗室、不宜小于0,87L1 H1,测量系统设备或受试设备的最大高度,m、H2,设备上部安装空间尺寸,m。H3。暗室顶部吸波材料高度.m，6.0。8 锥体暗室尺寸设计应符合下列规定，1。暗室静区尺寸不应小于待测天线尺寸、2。暗室长方体部分宽度和高度应相等。不应小于暗室静区尺寸的3倍，3、暗室长方体部分长度不应小于暗室宽度和主墙吸波材料高度的和，4,锥顶角可选取20，22。5、根据本条第1款。第4款设计的锥形暗室 测量距离L1应满足本规范表6，0，7的远场条件.6，6GHz及以上频段的锥形暗室.应符合自由空间电波传播幅度与相位的均匀性要求，6、0、9。正多边柱体暗室尺寸应符合下列规定，1，内壁内切圆半径R应按下式计算、R，L1。R2。R3,R4，6.0.9 1、式中。L1、测量距离。按本规范表6.0，7计算,对于1.1 2.1 3,2类远场测量暗室 当天线口面内电磁波相位偏差要求小于或等于λ。8时、K值取2、对于2,2类暗室 K值可小于2,R2 测量系统设备与受试设备沿半径方向的长度之和。R3、满足运输,维护和辐射特性需要，在半径方向的空间尺寸 R4.吸波材料的总高度,2，高度应按本规范式,6,0 7、3,计算，6,0。10、雷达截面紧缩场微波暗室。3、1类暗室,尺寸。应与要求的静区尺寸,测量系统布局、操作维护空间相协调匹配.6，0，11 除本规范表4。0，1中1.2 1.3，2.2.3 1,3。2。4,1类暗室测量系统在高度方向布局另有要求外，其他暗室内部测量系统应对称布局.6，0、12、暗室静区范围尺寸应大于受试设备试验状态中所覆盖的区域。