6、工艺设计6、0，1、电磁波暗室的工艺区划应满足暗室体型尺寸，暗室与功能性房间之间的相对位置要求，6 0。2，暗室应与测控间、设备间 试验间等相邻 6，0、3、暗室开门位置不宜在主反射区.6。0，4 暗室布局宜自建筑的底层开始、6、0 5、暗室体型宜选择内壁对电磁波反射路径既少又弱、试验操作安全可靠，结构简单的体型.6 0,6,暗室内有两套或以上功能测试系统时,其体型和尺寸除应满足各测试系统的测量技术要求外、还应满足系统间相互耦合的隔离要求 6、0。7，长方体暗室尺寸应符合下列规定。1。内壁长度L应按下式计算,L.L1,L2,L3 L4.6，0、7.1.式中 L1 测量距离,m,按表6。0.7计算。L2、暗室内测量系统设备和受试设备在测试中 沿暗室测量纵轴方向所占据的最大尺寸之和,m、L3，为满足运输 维护及电磁辐射性能要求.沿测量纵轴方向增加的长度 L4,暗室两端墙壁吸波材料沿测量纵轴方向的高度和，m 表6,0,7,L1计算。2.内壁宽度W应按下式计算，W。W1 W2、W3.6 0。7。2 式中、W,内壁宽度 m,不宜小于0,87L1 W1，暗室内测量系统设备和受试设备在测试中。沿暗室宽度方向所占据的最大尺寸.m.W2.满足运输,维护和辐射特性需要，沿暗室宽度方向的空间尺寸、m.W3.暗室两侧墙壁吸波材料高度的总和。m、3。内壁高度H应按下式计算，并应满足辐射特性要求、H.H1，H2、H3。6.0 7，3 式中.H、内壁高度.m、对于1 1.2、1.2、2,3.2类暗室.不宜小于0 87L1，H1，测量系统设备或受试设备的最大高度.m.H2 设备上部安装空间尺寸，m。H3。暗室顶部吸波材料高度，m。6,0 8。锥体暗室尺寸设计应符合下列规定。1.暗室静区尺寸不应小于待测天线尺寸。2 暗室长方体部分宽度和高度应相等，不应小于暗室静区尺寸的3倍 3,暗室长方体部分长度不应小于暗室宽度和主墙吸波材料高度的和，4 锥顶角可选取20、22,5。根据本条第1款.第4款设计的锥形暗室,测量距离L1应满足本规范表6、0,7的远场条件，6、6GHz及以上频段的锥形暗室、应符合自由空间电波传播幅度与相位的均匀性要求 6、0,9,正多边柱体暗室尺寸应符合下列规定,1、内壁内切圆半径R应按下式计算、R，L1,R2.R3。R4.6，0 9、1，式中。L1。测量距离 按本规范表6.0.7计算，对于1.1.2.1.3，2类远场测量暗室。当天线口面内电磁波相位偏差要求小于或等于λ，8时，K值取2,对于2 2类暗室.K值可小于2，R2 测量系统设备与受试设备沿半径方向的长度之和，R3,满足运输.维护和辐射特性需要,在半径方向的空间尺寸,R4、吸波材料的总高度，2 高度应按本规范式、6、0。7.3。计算 6、0.10、雷达截面紧缩场微波暗室.3,1类暗室。尺寸，应与要求的静区尺寸。测量系统布局.操作维护空间相协调匹配，6.0，11，除本规范表4,0.1中1.2。1,3,2 2，3。1.3,2、4 1类暗室测量系统在高度方向布局另有要求外,其他暗室内部测量系统应对称布局，6、0、12，暗室静区范围尺寸应大于受试设备试验状态中所覆盖的区域