6,工艺设计6、0。1，电磁波暗室的工艺区划应满足暗室体型尺寸，暗室与功能性房间之间的相对位置要求，6.0.2 暗室应与测控间，设备间。试验间等相邻，6 0。3,暗室开门位置不宜在主反射区，6.0 4,暗室布局宜自建筑的底层开始。6。0、5,暗室体型宜选择内壁对电磁波反射路径既少又弱、试验操作安全可靠,结构简单的体型.6。0.6 暗室内有两套或以上功能测试系统时 其体型和尺寸除应满足各测试系统的测量技术要求外 还应满足系统间相互耦合的隔离要求、6.0,7.长方体暗室尺寸应符合下列规定.1。内壁长度L应按下式计算 L。L1。L2。L3 L4.6.0,7，1。式中,L1.测量距离,m,按表6 0.7计算.L2 暗室内测量系统设备和受试设备在测试中。沿暗室测量纵轴方向所占据的最大尺寸之和.m.L3。为满足运输、维护及电磁辐射性能要求。沿测量纵轴方向增加的长度,L4、暗室两端墙壁吸波材料沿测量纵轴方向的高度和 m，表6，0、7 L1计算、2，内壁宽度W应按下式计算。W、W1.W2 W3,6。0,7，2.式中、W。内壁宽度。m 不宜小于0、87L1 W1 暗室内测量系统设备和受试设备在测试中。沿暗室宽度方向所占据的最大尺寸 m,W2。满足运输,维护和辐射特性需要.沿暗室宽度方向的空间尺寸.m，W3,暗室两侧墙壁吸波材料高度的总和,m。3、内壁高度H应按下式计算,并应满足辐射特性要求、H.H1，H2。H3。6 0，7，3、式中，H.内壁高度,m,对于1 1，2.1 2。2 3,2类暗室.不宜小于0。87L1、H1 测量系统设备或受试设备的最大高度，m，H2.设备上部安装空间尺寸,m。H3、暗室顶部吸波材料高度,m,6，0。8 锥体暗室尺寸设计应符合下列规定。1 暗室静区尺寸不应小于待测天线尺寸 2、暗室长方体部分宽度和高度应相等 不应小于暗室静区尺寸的3倍，3.暗室长方体部分长度不应小于暗室宽度和主墙吸波材料高度的和，4.锥顶角可选取20，22,5 根据本条第1款.第4款设计的锥形暗室。测量距离L1应满足本规范表6 0,7的远场条件 6。6GHz及以上频段的锥形暗室.应符合自由空间电波传播幅度与相位的均匀性要求.6，0、9.正多边柱体暗室尺寸应符合下列规定、1、内壁内切圆半径R应按下式计算。R，L1,R2 R3，R4.6、0、9,1。式中.L1 测量距离，按本规范表6,0、7计算 对于1、1。2，1，3.2类远场测量暗室 当天线口面内电磁波相位偏差要求小于或等于λ、8时。K值取2、对于2,2类暗室 K值可小于2 R2、测量系统设备与受试设备沿半径方向的长度之和，R3，满足运输。维护和辐射特性需要,在半径方向的空间尺寸 R4.吸波材料的总高度,2，高度应按本规范式，6,0 7，3,计算.6,0。10,雷达截面紧缩场微波暗室，3,1类暗室 尺寸.应与要求的静区尺寸、测量系统布局，操作维护空间相协调匹配。6，0。11。除本规范表4.0 1中1。2。1、3 2,2、3、1，3 2.4.1类暗室测量系统在高度方向布局另有要求外.其他暗室内部测量系统应对称布局.6。0,12，暗室静区范围尺寸应大于受试设备试验状态中所覆盖的区域,