6 工艺设计6 0 1,电磁波暗室的工艺区划应满足暗室体型尺寸 暗室与功能性房间之间的相对位置要求。6。0，2、暗室应与测控间、设备间 试验间等相邻,6，0，3，暗室开门位置不宜在主反射区。6、0、4、暗室布局宜自建筑的底层开始，6,0.5.暗室体型宜选择内壁对电磁波反射路径既少又弱、试验操作安全可靠 结构简单的体型，6。0，6。暗室内有两套或以上功能测试系统时、其体型和尺寸除应满足各测试系统的测量技术要求外 还应满足系统间相互耦合的隔离要求.6,0、7。长方体暗室尺寸应符合下列规定,1，内壁长度L应按下式计算，L L1、L2、L3,L4,6、0,7，1,式中，L1。测量距离.m，按表6 0，7计算、L2。暗室内测量系统设备和受试设备在测试中，沿暗室测量纵轴方向所占据的最大尺寸之和，m,L3。为满足运输，维护及电磁辐射性能要求,沿测量纵轴方向增加的长度 L4。暗室两端墙壁吸波材料沿测量纵轴方向的高度和 m、表6，0,7.L1计算,2。内壁宽度W应按下式计算 W，W1 W2 W3.6 0，7 2、式中，W，内壁宽度 m,不宜小于0.87L1，W1 暗室内测量系统设备和受试设备在测试中,沿暗室宽度方向所占据的最大尺寸。m，W2 满足运输、维护和辐射特性需要。沿暗室宽度方向的空间尺寸,m，W3、暗室两侧墙壁吸波材料高度的总和 m 3。内壁高度H应按下式计算 并应满足辐射特性要求.H，H1，H2。H3 6、0,7,3.式中,H，内壁高度 m，对于1，1、2,1,2、2、3.2类暗室 不宜小于0，87L1、H1。测量系统设备或受试设备的最大高度。m.H2、设备上部安装空间尺寸。m.H3。暗室顶部吸波材料高度、m,6。0 8,锥体暗室尺寸设计应符合下列规定 1,暗室静区尺寸不应小于待测天线尺寸、2。暗室长方体部分宽度和高度应相等、不应小于暗室静区尺寸的3倍，3 暗室长方体部分长度不应小于暗室宽度和主墙吸波材料高度的和，4,锥顶角可选取20,22 5。根据本条第1款、第4款设计的锥形暗室，测量距离L1应满足本规范表6。0.7的远场条件,6。6GHz及以上频段的锥形暗室、应符合自由空间电波传播幅度与相位的均匀性要求,6。0.9,正多边柱体暗室尺寸应符合下列规定 1，内壁内切圆半径R应按下式计算,R、L1.R2。R3，R4。6、0，9，1、式中,L1，测量距离，按本规范表6 0,7计算,对于1 1、2。1，3。2类远场测量暗室 当天线口面内电磁波相位偏差要求小于或等于λ 8时。K值取2、对于2.2类暗室 K值可小于2.R2 测量系统设备与受试设备沿半径方向的长度之和、R3，满足运输 维护和辐射特性需要、在半径方向的空间尺寸 R4、吸波材料的总高度、2。高度应按本规范式。6、0、7。3、计算。6.0。10,雷达截面紧缩场微波暗室、3，1类暗室.尺寸,应与要求的静区尺寸。测量系统布局 操作维护空间相协调匹配 6，0,11,除本规范表4 0。1中1.2、1，3。2.2.3，1。3.2.4,1类暗室测量系统在高度方向布局另有要求外，其他暗室内部测量系统应对称布局、6、0,12，暗室静区范围尺寸应大于受试设备试验状态中所覆盖的区域。