6,工艺设计6。0 1,电磁波暗室的工艺区划应满足暗室体型尺寸、暗室与功能性房间之间的相对位置要求，6 0 2、暗室应与测控间、设备间，试验间等相邻,6,0，3.暗室开门位置不宜在主反射区 6，0.4 暗室布局宜自建筑的底层开始、6。0.5.暗室体型宜选择内壁对电磁波反射路径既少又弱.试验操作安全可靠、结构简单的体型.6 0，6,暗室内有两套或以上功能测试系统时,其体型和尺寸除应满足各测试系统的测量技术要求外、还应满足系统间相互耦合的隔离要求 6 0，7,长方体暗室尺寸应符合下列规定。1，内壁长度L应按下式计算,L，L1，L2 L3,L4 6,0.7 1.式中，L1,测量距离.m 按表6,0、7计算。L2.暗室内测量系统设备和受试设备在测试中，沿暗室测量纵轴方向所占据的最大尺寸之和、m，L3，为满足运输。维护及电磁辐射性能要求.沿测量纵轴方向增加的长度.L4 暗室两端墙壁吸波材料沿测量纵轴方向的高度和、m 表6.0,7.L1计算。2。内壁宽度W应按下式计算，W，W1。W2.W3、6。0.7.2 式中 W 内壁宽度，m，不宜小于0，87L1。W1、暗室内测量系统设备和受试设备在测试中。沿暗室宽度方向所占据的最大尺寸.m W2、满足运输.维护和辐射特性需要,沿暗室宽度方向的空间尺寸.m。W3、暗室两侧墙壁吸波材料高度的总和，m,3。内壁高度H应按下式计算,并应满足辐射特性要求,H、H1 H2。H3、6,0.7 3。式中，H，内壁高度 m。对于1，1.2，1,2,2.3.2类暗室。不宜小于0。87L1.H1、测量系统设备或受试设备的最大高度.m、H2，设备上部安装空间尺寸、m H3、暗室顶部吸波材料高度，m,6，0，8 锥体暗室尺寸设计应符合下列规定,1,暗室静区尺寸不应小于待测天线尺寸,2、暗室长方体部分宽度和高度应相等。不应小于暗室静区尺寸的3倍.3 暗室长方体部分长度不应小于暗室宽度和主墙吸波材料高度的和,4,锥顶角可选取20.22、5，根据本条第1款、第4款设计的锥形暗室,测量距离L1应满足本规范表6 0、7的远场条件，6.6GHz及以上频段的锥形暗室、应符合自由空间电波传播幅度与相位的均匀性要求 6 0。9。正多边柱体暗室尺寸应符合下列规定、1 内壁内切圆半径R应按下式计算、R、L1 R2，R3,R4。6.0、9.1，式中。L1 测量距离，按本规范表6，0 7计算。对于1。1，2,1、3，2类远场测量暗室、当天线口面内电磁波相位偏差要求小于或等于λ.8时,K值取2 对于2,2类暗室，K值可小于2.R2.测量系统设备与受试设备沿半径方向的长度之和 R3 满足运输、维护和辐射特性需要，在半径方向的空间尺寸、R4，吸波材料的总高度 2,高度应按本规范式.6,0。7。3.计算,6、0.10、雷达截面紧缩场微波暗室 3。1类暗室 尺寸.应与要求的静区尺寸、测量系统布局 操作维护空间相协调匹配,6,0.11,除本规范表4,0、1中1.2 1 3 2。2.3，1.3.2.4 1类暗室测量系统在高度方向布局另有要求外 其他暗室内部测量系统应对称布局。6.0。12 暗室静区范围尺寸应大于受试设备试验状态中所覆盖的区域，