6,工艺设计6，0 1。电磁波暗室的工艺区划应满足暗室体型尺寸。暗室与功能性房间之间的相对位置要求 6.0。2 暗室应与测控间.设备间、试验间等相邻 6、0，3 暗室开门位置不宜在主反射区，6,0。4。暗室布局宜自建筑的底层开始 6，0 5、暗室体型宜选择内壁对电磁波反射路径既少又弱。试验操作安全可靠.结构简单的体型，6。0,6，暗室内有两套或以上功能测试系统时。其体型和尺寸除应满足各测试系统的测量技术要求外,还应满足系统间相互耦合的隔离要求，6、0、7.长方体暗室尺寸应符合下列规定,1.内壁长度L应按下式计算、L.L1 L2.L3.L4.6,0、7,1 式中,L1。测量距离、m 按表6，0，7计算，L2、暗室内测量系统设备和受试设备在测试中。沿暗室测量纵轴方向所占据的最大尺寸之和、m.L3.为满足运输、维护及电磁辐射性能要求.沿测量纵轴方向增加的长度.L4 暗室两端墙壁吸波材料沿测量纵轴方向的高度和.m，表6。0,7,L1计算 2、内壁宽度W应按下式计算、W。W1、W2。W3。6 0。7.2，式中.W.内壁宽度。m、不宜小于0、87L1，W1.暗室内测量系统设备和受试设备在测试中,沿暗室宽度方向所占据的最大尺寸，m W2。满足运输，维护和辐射特性需要,沿暗室宽度方向的空间尺寸。m、W3。暗室两侧墙壁吸波材料高度的总和,m.3 内壁高度H应按下式计算、并应满足辐射特性要求.H H1 H2,H3，6 0.7、3,式中,H 内壁高度 m。对于1。1 2。1，2、2。3。2类暗室、不宜小于0。87L1.H1,测量系统设备或受试设备的最大高度.m，H2、设备上部安装空间尺寸 m H3,暗室顶部吸波材料高度。m。6，0、8 锥体暗室尺寸设计应符合下列规定.1.暗室静区尺寸不应小于待测天线尺寸,2，暗室长方体部分宽度和高度应相等、不应小于暗室静区尺寸的3倍、3、暗室长方体部分长度不应小于暗室宽度和主墙吸波材料高度的和 4。锥顶角可选取20,22，5。根据本条第1款、第4款设计的锥形暗室。测量距离L1应满足本规范表6，0 7的远场条件。6，6GHz及以上频段的锥形暗室、应符合自由空间电波传播幅度与相位的均匀性要求 6，0。9 正多边柱体暗室尺寸应符合下列规定.1 内壁内切圆半径R应按下式计算。R.L1 R2,R3 R4.6.0，9，1。式中、L1。测量距离，按本规范表6，0，7计算 对于1。1，2 1。3。2类远场测量暗室 当天线口面内电磁波相位偏差要求小于或等于λ、8时.K值取2。对于2,2类暗室、K值可小于2.R2、测量系统设备与受试设备沿半径方向的长度之和.R3。满足运输、维护和辐射特性需要.在半径方向的空间尺寸，R4，吸波材料的总高度,2 高度应按本规范式 6，0，7、3、计算，6 0、10.雷达截面紧缩场微波暗室、3 1类暗室，尺寸 应与要求的静区尺寸,测量系统布局 操作维护空间相协调匹配 6。0、11，除本规范表4 0。1中1 2 1、3 2.2、3 1,3、2,4,1类暗室测量系统在高度方向布局另有要求外。其他暗室内部测量系统应对称布局,6，0 12.暗室静区范围尺寸应大于受试设备试验状态中所覆盖的区域，